Ion Assist蒸着膜について

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従来の成膜方法との比較

従来の成膜方法との比較

従来の成膜方法との比較

原料粉が細かければ膜も緻密になる→分子状成膜:最も緻密 原料粉が細かければ膜も緻密になる→分子状成膜:最も緻密

原料粉が細かければ膜も緻密になる→分子状成膜:最も緻密 原料粉が細かければ膜も緻密になる→分子状成膜:最も緻密

原料粉が細かければ膜も緻密になる→分子状成膜:最も緻密

安定相は4相:F量と膜硬度は反比例

安定相は4相:F量と膜硬度は反比例

安定相は4相:F量と膜硬度は反比例

流量比で制御可能

流量比で制御可能

流量比で制御可能

複雑な構造:硬度が2000MPa以上 複雑な構造:硬度が2000MPa以上

複雑な構造:硬度が2000MPa以上 複雑な構造:硬度が2000MPa以上

複雑な構造:硬度が2000MPa以上 複雑な構造:硬度が2000MPa以上

F Plasma耐食性が大幅に向上 F Plasma耐食性が大幅に向上

F Plasma耐食性が大幅に向上 F Plasma耐食性が大幅に向上

F Plasma耐食性が大幅に向上 F Plasma耐食性が大幅に向上

超緻密膜、かつ(111)最稠密面に優先配向する為フッ素プラズマに対して大きな耐食性を示す
Plasma処理前・処理後の比較
従来の成膜方法との比較

従来の成膜方法との比較

従来の成膜方法との比較

Oxide
ΔG0f
Floride
ΔG0f
沸点
kJ/mol
kJ/mol
℃
SiO2
-857
TiO2
-890
Fe3O4
-1015
FeF2
-1162
<1000
Cr2O3
-1058
CrF2
-732
1300
MgO
-1170
MgF2
-1070
2260
Al2O3
-1582
AlF3
-1425
1260
La2O3
-1706
Y2O3
-1727
YF3
-1645
2200
Ta2O5
-1911
TaF5
融点97℃
Ti2O5
-2318
TiF4
融点377℃
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