半導体の微細化加工技術とともに半導体製造装置の耐食性保護膜の重要性は益々高まっており、世界中で開発競争が繰り広げられています。特に昨今、EUV(Extreme Ultraviolet)と呼ばれる非常に短い波長(13.5nm)の光を用いる微細加工が可能な露光機が登場して以来、その重要性は非常に高まっています。
つばさ真空理研株式会社は長年の半導体業界における経験を活かし、半導体関連の顧問会社として2019年に創業しましたが、2021年にこれまで蓄積したノウハウを具現化し導入を加速化するため、日本で使用される製造装置については耐食性保護膜も供給する受託コーティングベンチャー企業として生まれ変わりました。
耐食性保護膜はニッチな部分ですが、実は半導体製造における技術の要とも言えます。日本の耐食性保護膜技術が世界と競争することで常に最高の技術を市場に展開することに寄与することが当社の基本姿勢です。
高融点金属酸化膜を緻密な膜として捉えると、半導体以外にも多くの応用が広がってきます。弊社はニッチ産業の頂点を目指すことで多くの産業に貢献し、しいては未来に継続的に貢献してまいります。
皆様に安心してご利用頂ける会社を目指し邁進して参りますので、ご支援の程宜しくお願い致します。