Ion Assist蒸着法とは
Ion Assist蒸着法とは
つばさ真空理研株式会社は、特殊なIon Assist蒸着技術によって気孔のない、非常に緻密な酸化イットリウム( Y₂O₃ )膜を形成することを特徴としています。耐食性保護膜によってパーティクルを低減させ、生産性の向上、製品の信頼性向上につなげていきます。次世代技術として酸フッ化イットリウム(YOF)やYAG(Al₃Y₅O₁₂)にも取り組んで開発していきます。
従来の溶射による成膜では粉体をプラズマで半溶融状態にして照射させる成膜法なので緻密な膜ができない問題点があります。Ion Assist蒸着は原子状態で成膜し、酸素イオン照射で膜を緻密化させますので原子レベルで緻密な膜ができます。
従来の溶射による成膜では粉体をプラズマで半溶融状態にして照射させる成膜法なので緻密な膜ができない問題点があります。Ion Assist蒸着は原子状態で成膜し、酸素イオン照射で膜を緻密化させますので原子レベルで緻密な膜ができます。
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特殊なIon Assist蒸着法により
形成した気孔の無い 非常に緻密なY₂O₃膜 |
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↓
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Etching装置
PE-CVD装置 |
→
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F耐食性保護膜
御提案Y₂O₃ |
←
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パーティクル
低減 |
イオンアシスト蒸着(IAD)
分子状態で成膜+酸素イオン照射で緻密化
原子レベルで緻密な膜が出来る
原子レベルで緻密な膜が出来る
従来の溶射成膜(APS)
粉体をプラズマで半溶解状態にして照射
厚膜には良いが緻密にならない
厚膜には良いが緻密にならない
イオンアシスト蒸着(IAD)
イオンアシスト蒸着(IAD)
非常に緻密な膜→パーティクル低減
従来の溶射成膜(APS)
従来の溶射成膜(APS)
気孔が多い膜→パーティクルの原因Ion Assist蒸着で世界初の酸素イオン照射による緻密で10μm以上のY₂O₃成膜が可能となりました。
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