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Tsubasa Science
オリジナル表面処理コーティングで
半導体のライフタイムをより長く
半導体のライフタイムをより長く
Technology
技術紹介
IAD方式は緻密な薄膜～厚膜まで成膜可能なため、
多角的な応用が期待当社の独自技術であるIon Assist蒸着法（IAD）は原料を電子ビームで加熱溶融して真空中で蒸着させます。同時に酸素イオンを基盤に照射（1kV）して緻密な成膜を形成させます。原子レベルで成膜するので緻密で硬い膜ができ、クリーンな環境で成膜できます。形成された膜は研磨不要です。
多角的な応用が期待当社の独自技術であるIon Assist蒸着法（IAD）は原料を電子ビームで加熱溶融して真空中で蒸着させます。同時に酸素イオンを基盤に照射（1kV）して緻密な成膜を形成させます。原子レベルで成膜するので緻密で硬い膜ができ、クリーンな環境で成膜できます。形成された膜は研磨不要です。
インスタグラム
2026.10.24
台風の影響は少なくなってます。帰れそうです。5泊6日実りの多い出張になりました。
2026.10.23
日帰りで台南出張行ってきます。
2026.10.22
今日は日帰りで台南に行ってきます。
2026.10.20
今夜は台湾の生ビール18天を戴きます。お疲れ様でございます。
2026.10.20
台湾は電気自動車がとても増えているそうです。ハイブリッドは浸透してない感じです。
2026.10.20
新竹の帰宅ラッシュ
2026.10.19
もう少しで台北桃園空港
2026.10.19
1週間 台湾出張！頑張ります！
2026.10.16
今日も良い1日でした。
お疲れ様でございます。
2026.10.15
今日は仕事の打ち合わせで吉祥寺に来ました。素敵な街ですね。
半導体製造装置では、プラズマによる部材の劣化や微粒子の発生が、稼働率や製品品質に影響します。耐プラズマコーティングを検討する際は、膜の種類だけでなく、使用環境や交換頻度も踏まえた選定が重要です。たとえばPVD方式で形成するY2O3膜やYOF膜は、求める耐食性、膜厚、基材との適合性を確認して比較します。RF電源やRFマッチングボックスを含む装置条件、CIP工程との関係も整理すれば、評価時の見落としを減らせます。つばさ真空理研株式会社へ相談する際は、対象部材や使用条件、現在の課題を具体的に伝えると、検討の方向性を明確にしやすくなります。
2026年 11月 5日更新