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Tsubasa Science
オリジナル表面処理コーティングで
半導体のライフタイムをより長く
半導体のライフタイムをより長く
Technology
技術紹介
IAD方式は緻密な薄膜～厚膜まで成膜可能なため、
多角的な応用が期待当社の独自技術であるIon Assist蒸着法（IAD）は原料を電子ビームで加熱溶融して真空中で蒸着させます。同時に酸素イオンを基盤に照射（1kV）して緻密な成膜を形成させます。原子レベルで成膜するので緻密で硬い膜ができ、クリーンな環境で成膜できます。形成された膜は研磨不要です。
多角的な応用が期待当社の独自技術であるIon Assist蒸着法（IAD）は原料を電子ビームで加熱溶融して真空中で蒸着させます。同時に酸素イオンを基盤に照射（1kV）して緻密な成膜を形成させます。原子レベルで成膜するので緻密で硬い膜ができ、クリーンな環境で成膜できます。形成された膜は研磨不要です。
インスタグラム
2026.11.06
今週も皆さま、お疲れ様でした。
2026.11.06
昨日は京葉エリアにある半導体関連のメーカーさんに営業に行きました。風が強いです。今年は台風いつまで来るのでしょうか？異常気象ですね。
2026.10.24
台風の影響は少なくなってます。帰れそうです。5泊6日実りの多い出張になりました。
2026.10.23
日帰りで台南出張行ってきます。
2026.10.22
今日は日帰りで台南に行ってきます。
2026.10.20
今夜は台湾の生ビール18天を戴きます。お疲れ様でございます。
2026.10.20
台湾は電気自動車がとても増えているそうです。ハイブリッドは浸透してない感じです。
2026.10.20
新竹の帰宅ラッシュ
2026.10.19
もう少しで台北桃園空港
2026.10.19
1週間 台湾出張！頑張ります！
半導体製造装置の部材は、プラズマによる摩耗や汚染を抑えるため、用途に応じた耐プラズマコーティングが重要です。Y2O3膜はプラズマ環境で使われる皮膜の一つですが、求める耐久性や部材形状によって適した材料・成膜条件は異なります。PVD方式は真空中で材料を堆積させる方法で、CVD方式とは膜の形成原理や適用条件が異なります。Al2O3膜も含め、膜種だけで判断せず、使用ガス、温度、形状、膜厚、密着性を確認することが選定の要点です。つばさ真空理研株式会社への相談時も、装置の使用環境や交換頻度などを整理して伝えると、必要な仕様を検討しやすくなります。
2026年 11月 6日更新