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Tsubasa Science
オリジナル表面処理コーティングで
半導体のライフタイムをより長く
「膜を作る会社」から、
半導体装置の性能を支える技術パートナーへ。
半導体のライフタイムをより長く
「膜を作る会社」から、
半導体装置の性能を支える技術パートナーへ。
Technology
技術紹介
IAD方式は緻密な薄膜～厚膜まで成膜可能なため、
多角的な応用が期待当社の独自技術であるIon Assist蒸着法（IAD）は原料を電子ビームで加熱溶融して真空中で蒸着させます。同時に酸素イオンを基盤に照射（1kV）して緻密な成膜を形成させます。原子レベルで成膜するので緻密で硬い膜ができ、クリーンな環境で成膜できます。形成された膜は研磨不要です。
多角的な応用が期待当社の独自技術であるIon Assist蒸着法（IAD）は原料を電子ビームで加熱溶融して真空中で蒸着させます。同時に酸素イオンを基盤に照射（1kV）して緻密な成膜を形成させます。原子レベルで成膜するので緻密で硬い膜ができ、クリーンな環境で成膜できます。形成された膜は研磨不要です。
インスタグラム
2026.11.10
今日はこちらのビルに入っている会社さんと営業ミーティングです。早く着いたのでコーヒーブレイク
2026.11.08
愛犬のコーギーの週末は長めの散歩をしてます。この時間が大切で翌週の仕事にも活かせます。ON/OFFはちゃんと出来るのがいいビジネスマンだと自負しております。
2026.11.06
今週も皆さま、お疲れ様でした。
2026.11.06
昨日は京葉エリアにある半導体関連のメーカーさんに営業に行きました。風が強いです。今年は台風いつまで来るのでしょうか？異常気象ですね。
2026.10.24
台風の影響は少なくなってます。帰れそうです。5泊6日実りの多い出張になりました。
2026.10.23
日帰りで台南出張行ってきます。
2026.10.22
今日は日帰りで台南に行ってきます。
2026.10.20
今夜は台湾の生ビール18天を戴きます。お疲れ様でございます。
2026.10.20
台湾は電気自動車がとても増えているそうです。ハイブリッドは浸透してない感じです。
2026.10.20
新竹の帰宅ラッシュ
半導体製造装置の部材は、プラズマによる腐食や摩耗を受けやすく、膜の材質や成膜方法の選定が品質維持の鍵となります。Y2O3膜は耐プラズマ性が求められる部材に用いられ、立方晶など結晶構造や膜の硬度も評価のポイントです。PVD方式は材料を物理的に堆積させる成膜法で、CVD方式とは膜の形成原理が異なります。また、RF電源とRFマッチングボックスの適切な調整は、安定したプラズマ生成に関わります。つばさ真空理研株式会社では、YOF膜を含む表面処理や真空技術に関する情報を確認し、用途に応じた仕様検討に役立てられます。膜種だけで判断せず、使用環境や求める特性を整理することが、部材選定の第一歩です。
2026年 11月 11日更新