Tsubasa Science
オリジナル表面処理コーティングで
半導体のライフタイムをより長く
半導体のライフタイムをより長く
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つばさ真空理研株式会社は、半導体製造において優れた技術を提供しています。特に、Y2O3膜やYAG膜、Al2O3膜の製造において、PVD方式を用いた革新的な方法を採用しています。このような革新性の高い製造方法は、高い耐久性や効率性を実現し、RF電源やRFマッチングボックス、イオンアシストなどの分野で高い評価を得ています。その中でも、PVD方式は優れた膜の堅牢さと均一性を実現し、製品の品質向上に貢献しています。つばさ真空理研株式会社の製品は、常にユーザーのニーズに合った高品質な製品を提供しています。
2026年 10月 12日更新