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つばさ真空理研株式会社
つばさ真空理研株式会社

Tsubasa Science

オリジナル表面処理コーティングで
半導体のライフタイムをより長く

About us

私たちについて
つばさ真空理研株式会社は、神奈川県藤沢市に本社を構える独自真空蒸着技術による高融点金属酸化膜の成膜開発・受託成膜及び販売を行う会社です。
オリジナル表面処理コーティングで半導体や半導体以外のお客様のお悩みや課題に合わせた解決方法をご提案いたします。

Business

事業内容

受託成膜

長年にわたる半導体業界における経験を活かし、真空技術による成膜開発・製造・販売を行っています。

CIP改善

成膜プロセスのロスやムダを減らし、膜品質の向上と製造コスト削減を絶え間なく追求する現場主導の改善を提案します。

ブランド

当社で取扱中のブランドをご紹介しています。成膜装置に必要な部品や機械のご提案もしております。
技術紹介

Technology

技術紹介
IAD方式は緻密な薄膜～厚膜まで成膜可能なため、
多角的な応用が期待当社の独自技術であるIon Assist蒸着法（IAD）は原料を電子ビームで加熱溶融して真空中で蒸着させます。同時に酸素イオンを基盤に照射（1kV）して緻密な成膜を形成させます。原子レベルで成膜するので緻密で硬い膜ができ、クリーンな環境で成膜できます。形成された膜は研磨不要です。

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2026.10.16
今日も良い1日でした。 お疲れ様でございます。
2026.10.15
今日は仕事の打ち合わせで吉祥寺に来ました。素敵な街ですね。
2026.10.13
三連休最終日は妻と踊る大捜査線N.E.Wを観てきました。青島さんありがとうございます😊
2026.10.13
なんでも聞いてくださいね。
2026.10.13
横浜ハードテックハブ
2026.10.13
弊社のクリーンルーム　クラス1000
2026.10.12
今日も元気にお散歩
2026.10.11
今日は街ランにラン友さんと行って来ました。楽しかった
2026.10.09
７時前にホテルをチェックアウトして1時間半ウォーキングしました。体の調子があがりました。さぁビジネススタートです。
2026.10.08
スト２ナナちゃん

つばさ真空理研株式会社は、半導体の製造においてY2O3膜をPVD方式で使用することで、高硬度と優れた立方晶構造を実現しています。この革新的な技術を取り入れた製品は、修理や改善が容易であり、市場で高く評価されています。半導体業界において、つばさ真空理研株式会社の先端技術は注目されるべきです。

2026年 10月 17日更新