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Tsubasa Science
オリジナル表面処理コーティングで
半導体のライフタイムをより長く
半導体のライフタイムをより長く
Technology
技術紹介
IAD方式は緻密な薄膜～厚膜まで成膜可能なため、
多角的な応用が期待当社の独自技術であるIon Assist蒸着法（IAD）は原料を電子ビームで加熱溶融して真空中で蒸着させます。同時に酸素イオンを基盤に照射（1kV）して緻密な成膜を形成させます。原子レベルで成膜するので緻密で硬い膜ができ、クリーンな環境で成膜できます。形成された膜は研磨不要です。
多角的な応用が期待当社の独自技術であるIon Assist蒸着法（IAD）は原料を電子ビームで加熱溶融して真空中で蒸着させます。同時に酸素イオンを基盤に照射（1kV）して緻密な成膜を形成させます。原子レベルで成膜するので緻密で硬い膜ができ、クリーンな環境で成膜できます。形成された膜は研磨不要です。
インスタグラム
2026.10.16
今日も良い1日でした。
お疲れ様でございます。
2026.10.15
今日は仕事の打ち合わせで吉祥寺に来ました。素敵な街ですね。
2026.10.13
三連休最終日は妻と踊る大捜査線N.E.Wを観てきました。青島さんありがとうございます😊
2026.10.13
なんでも聞いてくださいね。
2026.10.13
横浜ハードテックハブ
2026.10.13
弊社のクリーンルーム クラス1000
2026.10.12
今日も元気にお散歩
2026.10.11
今日は街ランにラン友さんと行って来ました。楽しかった
2026.10.09
７時前にホテルをチェックアウトして1時間半ウォーキングしました。体の調子があがりました。さぁビジネススタートです。
2026.10.08
スト２ナナちゃん
つばさ真空理研株式会社は、半導体製造における革新的な技術を提供しています。特に、Y2O3膜やYAG膜の成膜においては、PVD方式を駆使し、耐プラズマコーティング性を向上させています。この技術により、剥がれにくい膜を実現し、製品の信頼性を高めています。高品質なコーティング技術で、お客様のニーズにお応えします。
2026年 10月 19日更新